技术档案

光刻设备Lithography equipment

用光印制芯片图案的设备

每条都摘自下方编号的来源原文；只写事实，不写预测或建议。

主要参与者

  • ASML的NXE与EXE系统使用极紫外光实现高分辨率光刻。1
    Using extreme ultraviolet (EUV) light, our NXE and EXE systems deliver high-resolution lithography and make mass production of the world’s most advanced microchips possible

来源

  1. asml.com · ASML EUV lithography systems