技术档案

极紫外光刻Extreme ultraviolet lithography

用极紫外光打印芯片图形

每条都摘自下方编号的来源原文；只写事实，不写预测或建议。

已有应用

  • TWINSCAN EXE:5200B是0.55数值孔径的High NA EUV设备，继任EXE:5000。1
    The TWINSCAN EXE:5200B is the second 0.55 NA, or ‘High NA’, EUV lithography system and the successor to the TWINSCAN EXE:5000.

来源

  1. asml.com · TWINSCAN EXE:5200B