技术档案

极紫外光刻EUV lithography

以极紫外光印制芯片图案

每条都摘自下方编号的来源原文；只写事实，不写预测或建议。

已有应用

  • ASML的TWINSCAN NXE:3600D支持5纳米、3纳米逻辑节点及先进DRAM节点的EUV量产。1
    The TWINSCAN NXE:3600D supports EUV volume production at the 5 and 3 nm Logic nodes and leading-edge DRAM nodes.

来源

  1. asml.com · ASML EUV lithography systems