技术档案

极紫外光刻EUV lithography

以极紫外光印制芯片图案

每条都摘自下方编号的来源原文；只写事实，不写预测或建议。

技术简介

  • EUV系统用多层反射镜而非透镜引导光线，并把掩模图案缩小四倍。1
    EUV systems use several multilayer mirrors instead of lenses to guide the EUV light to the wafer, shrinking the reticle pattern by a factor of four.

来源

  1. asml.com · ASML EUV lithography systems