技术档案

极紫外光刻EUV lithography

以极紫外光印制芯片图案

每条都摘自下方编号的来源原文；只写事实，不写预测或建议。

主要参与者

  • ASML称EUV光刻技术为其独有。1
    EUV lithography, a technology entirely unique to ASML, uses light with a wavelength of 13.5 nanometers.

来源

  1. asml.com · All about light and lasers in lithography · 2026-10-20